Integrated Power Devices and TCAD Simulation

Appendix B Process Simulation Source Code

The Suprem source code for a mock-up smart power IC process simulation flow

#— — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — —

# This is a mock up BCD technology flow for 0.35 ∼ 0.18 µm

#— — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — —

include file = geo1.in

#— — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — —

# Wafer Start

#— — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — —

initialize boron orient = 100 conc = 1e17

struct outfile = 00_sub.str

#— — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — —

# NBL screen oxide

# — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — — —

diffuse time = 15 temp = 1000 dryo2

struct outfile = 01a_NBL_screen.str ...